中国刻蚀机之父：中国首创刻蚀技术中芯国际率先采用后来被全球抄作业

中微公司目前已成为台积电先进制程生产过程中刻蚀设备的核心供应商，而更换刻蚀设备供应商极为困难，过去市场长期由泛林集团Lam Research、应用材料Applied Materials和东京电子Tokyo Electron所主导。

在央视财经的访谈节目中被询问“如何在强者垄断中突围而入”时，中微半导体设备（上海）股份有限公司的董事长兼总经理尹志尧表示，公司掌握了一些国际上前所未有的独特技术手段。

他补充道，中微公司自主研发的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术，在推出三年后即被全球三大设备巨头悉数模仿。如今，所有基于CCP电容耦合等离子体技术的刻蚀设备都离不开这项创新。

另外，双台机设计同样是中微的原创成果，它支持单台独立运行，且两侧晶圆可同步刻蚀，这使材料成本降低超过30%。尽管售价低于国际竞争者，但性能表现却更加优越。

“让我永志不忘的是，当首次试验将两片硅片分别置于左右两个平台中时，它们各自的刻蚀速率仅相差0.1纳米。这一成就在2007年便已达到。”尹志尧说。

尹志尧还提到，第一位敢于尝试中微设备的是中芯国际的张汝京博士。他率先试用并成功取得良好效果，这给了中微公司进入中国**市场的信心。

他透露，2023年12月，中微决定进军大平板设备领域，而在此之前，大约有17种工艺设备均全部依赖国外进口。这种装备重量达150吨，宽达15米，长达15米，高度相当于两层半楼。

基于尹志尧的经验，开发如此复杂的设备通常需要3至7年的时间。然而，中微的精锐团队仅用12个月，便从零开始制造出可运行设备。再经过不到4个月，它已满足客户下一代技术要求，仅18个月内就被送往生产线并顺利通过核准流程。

“我们现在已经有能力来制造最先进的设备，”尹志尧自豪地说。

1944年出生于北京的尹志尧被誉为“中国刻蚀机之父”。他曾在美深耕多年，持有数百项专利，并担任泛林集团及应用材料的高层职位。在60岁那年，他毅然放弃上百万美元的年薪，回国创业。回国时，他要求所有员工不得携带任何文件，全部使用空白电脑从零开始。

自2004年创立至今，中微公司始终坚持自主研发策略，其多款等离子刻蚀设备因此在业界广受认可。

22年之后，中微公司的市值已突破2714亿元大关，其设备成功进入台积电5nm、3nm等先进制程供应链，而尹志尧本人也重新恢复中国国籍。

来源：快科技